Passerella elevata di perforazione del getto rotante elevato

Serie ZXP-60A L'impianto di perforazione del getto elevato è un impianto di perforazione a doppia scopi adatto per i processi di ingegneria a getto ad alta pressione e ancoraggio di ancoraggio sviluppato da RM in base alle esigenze del mercato. Al fine di adattarsi all'inseguimento e alla promozione del metodo di costruzione del getto ad alta pressione nel mio paese, attraverso la combinazione di diversi moduli, può adattarsi alla stuccatura fissa, alla stuccatura, alla stuccatura del getto e ad altri processi di costruzione; Grouting a getto singolo, doppio, triplo e altri requisiti di costruzione. Può essere utilizzato per vari rinforzi di fondazione morbida, trattamento antieepage di scantinati di costruzione di grattacieli, regolamentazione di grandi fiumi e dighe e rinforzo dei moli del ponte ferroviario e dell'autostrada.

RM è uno dei famosi produttori e fornitori di brani di perforazione che hanno stuccati a getto di Bula in Cina. La nostra fabbrica è specializzata nella produzione di impianti di perforazione, pompe ad alta pressione, strumenti di perforazione, ecc. Benvenuti ad acquistare impianti di perforazione a getto elevati di Bula da RM. Ogni richiesta da parte dei clienti verrà risposta entro 24 ore.

L'impianto di perforazione ha le seguenti caratteristiche

● Componenti di configurazione multipli, gli utenti possono scegliere diversi moduli di prestazione in base alle diverse esigenze di sviluppo del progetto.

● BU LU LU Elevated Jet Drilling Rig adotta la completa tecnologia idraulica, che è facile da gestire e mantenere.

● BU LU LU Elevated a getto rotante L'impianto di perforazione può completare la perforazione e la gettatura rotante contemporaneamente quando si costruisce in alcuni terreni morbidi. Quando il getto rotante viene sollevato, quando la profondità del getto rotante non è superiore all'altezza della torre ausiliaria (27 m), non è necessario disassemblare l'asta di perforazione e la colonna può essere formata contemporaneamente.

Performance e parametri di base